一、工藝特點
沉積速度快,陰極電流效率高,在較高電流密度下操作,可得到滿意的走位。操作濃度較低,光亮范圍較寬,具有優良的覆蓋能力及分散能力,且雜質容忍度高。FJ-106 裝飾性鍍鉻添加劑采用可溶性復合催化劑,對工件有良好的水活化作用。不會腐蝕陽極。
二、工藝規范
|
范圍 |
最佳 |
鉻酐(CrO3) |
100~260g/L |
180g/L |
硫酸(H2SO4) |
0.9~2.5g/L |
1.5g/L |
FJ-106 添加劑 |
10~25mL/L |
20mL/L |
陰極電流密度 |
15~50A/dm2 |
30A/dm2 |
溫度 |
25~45℃ |
35℃ |
比重 |
12~23Be0 |
17 Be0 |
陰陽極面積比 |
鉛錫合金陽極 |
鉛錫合金陽極 |
三、槽液配制方法:
加入所配槽液總體積的60~70%去離子水,加熱至25℃攪拌邊加入計算量的鉻酐,攪拌使其充分溶解,加水至標準液位。 分析調節硫酸至標準含量,控制鉻酐:硫酸比為100:0.5-0.8, 加入計算量的FJ-106裝飾性鍍鉻添加劑。掛好陽極,以大面積陰極在6V電壓于操作溫度下電解3~5小時。 試鍍。
四、使用方法:
每補加100Kg鉻酐同時補加FJ-106裝飾性鍍鉻添加劑約6L;含量高則導電率高,但陰極電流下降,不足則高電流區易燒焦。槽液中三價鉻含量控制在1~3克/升。三價鉻過低,沉積速度慢,鍍層較軟,鍍液均度能力差,可通過大陰極小陽極(面積比4~5倍),電解來升高;三價鉻過高則鍍層光亮范圍小,導電差,槽壓高,可用大陽極小陰極(面積比10~30倍)電解,來降低。 鍍液中必須有一定量的硫酸才可以使六價鉻還原成金屬鉻,其含量不在于其絕對值的多少,而在于合適的鉻酐/硫酸比;使用FJ—106裝飾性鍍鉻添加劑,要求控制鉻酐/硫酸在100:0.5-0.8;硫酸過多,沉積速度慢,沉積速度和深度能力降低;硫酸過低,鍍層光潔度差,邊緣會出現黑色條紋、有鉻渣;硫酸過高,可加碳酸鋇除去,一般2克碳酸鋇可沉淀1克硫酸。
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